1、主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法較為合適。
2、主要材料:IT0玻璃、光學鏡頭、顯微鏡探針、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。
3、可以去除污垢:有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
紫外清洗機的保養事項如下:
1、在干燥通風平穩的位置安放設備。
2、在對設備使用的過程,需要特別留心,不要對產品進行隨意地挪動或者不能夠將紫外臭氧清洗機的上蓋打開,從而防止導致溢水的情況發生。
3、在對設備使用結束以后,為了防止機器內部有一位產生或者有細菌滋生,需要對其進行及時地清潔。通常的清潔劑即能夠使用。
4、應當保持設備的潔凈與干燥,尤其值得注意的是預防回水。對儀器的電壓電流是否正常進行定期的檢查。
5、對于工具的檢查與保養大概一周有一次,往軸承等轉動部位添加黃油,往氣動馬達部位添加機油。
6、長時間不使用時可以把各部分的泥土等的物體進行沖洗擦拭干凈,各個回轉部以及皮帶和鏈條等的附著的雜物都要的清除而且各回轉部及磨擦主動部,充分注油以防止生銹現象的出現。