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磁控濺射鍍膜設備

簡要描述：1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。

  • 所在城市：無錫市
  • 廠商性質：生產廠家
  • 更新日期：2024-03-27
  • 訪  問  量：228

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品牌LEBO/雷博
　　1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
 
　　2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
 
　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
 
　　4.主要用途：
 
　　1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。
 
　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 
　　3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
 
　　5.應用領域：
 
　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。
 
　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。
 
 

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